粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
微波等離子模塊-遠程微波等離子體系統RPS
直接聯系
成都奮羽電子科技有限公司
四川
面議
奮羽電子
微波等離子模塊-遠程微波等離子體系統RPS
873
遠程微波等離子體系統由微波源，等離子腔，自動調配器，環形器和導軌組成，有固態微波源和磁控管電源兩種版本可選，是等離子清洗設備、蝕刻設備、去膠設備和鍍膜設備的核心部件，搭載在等離子表面處理設備上通過把電能轉化為微波能將輸入氣體（Ar、O2、H2、CF4等）激發成物質的第四種狀態-等離子狀態從而對目標物質的表面進行污染物和氧化物清洗去膠蝕刻等處理，廣泛應用于半導體制造前后道工藝中對晶圓表面的處理，高價值無機材料金屬材料等的表面清潔。
| 項目 | 固態源版本 | 磁控管版本 |
| 輸出功率 | 3kW | 3kW |
| 輸出頻率 | 2450MHz±25MHz | 2450MHz±25MHz |
| 頻率誤差 | ±50ppm | 2%-3% |
微波泄露 | ≤2mW/cm2 | ≤2mW/cm2 |
| 供電電壓 | AC380V±10% | AC380V±10% |
| 供電頻率 | 50Hz±2Hz | 50Hz±2Hz |
| 進/出水口 | 1/8寶塔接頭 | DN15 |
| 冷卻方式 | 水冷（Φ10快插接頭，水流量≥2.5L/min，進水溫度小于 環境溫度時，兩者溫度差≤10°C） | 水冷（Φ10快插接頭，水流量≥2.5L/min，進水溫度小于環境溫度時，兩者溫度差≤10°C） |
| 控制接口 | RS485通信協議 | 具備本地觸摸屏控制及遠程通訊功能，MODBUS RTU 標準通訊協議，9600,N,8,1 |
| 工藝氣體 | Ar、O2、H2、CF4等（CF4需配耐刻蝕材料） | Ar、O2、H2、CF4等（CF4需配耐刻蝕材料） |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機
