粉體行業(yè)在線展覽
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MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A
直接聯(lián)系
天津市萬德思諾國際貿易有限公司
天津
面議
萬德思諾
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A
1065
產品圖片：
產品型號：
M150A
產品介紹：
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備M150A是一種新型氧化物成膜技術，具有節(jié)能安全、易操作等優(yōu)點，可廣泛應用于第四代半導體Ga2O3，直接寬帶隙光電半導體材料 ZnO 等氧化物的薄膜沉積制造。
M150A 是青禾晶元開發(fā)的**一代 mist-CVD 氧化物薄膜沉積設備，致力于將半導體材料的制備技術推向新的時代。
產品特性：
技術參數(shù)：
溶液成長法單晶生長設備（TSSG法）
中型高速研磨設備 STC-610
快速高溫退火設備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A
C2W低溫熱壓鍵合設備 SAFP
高還原性低溫熱壓對準鍵合設備 MAFP
高還原性低溫熱壓鍵合設備 FATB
碳膜濺射設備 CS-200
碳膜去除設備 NE-550EX
激活退火設備 Ailesic-2000
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
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