粉體行業在線展覽
ED-1500D高真空蒸發鍍膜設備
面議
澤鴻半導體
ED-1500D高真空蒸發鍍膜設備
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設備概述
批次生產型高真空蒸發鍍膜設備,用于在基板表面沉積各種金屬薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\A|等)滿足 2-12inch Wafer 生產需求,適合大批量金屬沉積工藝或者 Lift off 工藝。
技術特點
雙冷泵配置,快速高效排氣,超大腔體設計,大產能優勢,低材料消耗,低成本生產。
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
GPZT-JH10/4W
NJ-80型