粉體行業在線展覽
LD-200A緊湊型原子層沉積設備
面議
澤鴻半導體
LD-200A緊湊型原子層沉積設備
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緊湊型原子層沉積設備,用于基板表面沉積各種薄膜(氧化鋁,氧化硅等),滿足2-8inch 科研、生產工藝需求。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037