粉體行業在線展覽
HVPE氣相外延
面議
華旗科技
HVPE氣相外延
863
產品性能:
*工作溫度:200~1200℃/2200℃
*結構方式:水平/垂直,片數:1/3/6/多片(科研/生產型)
*多溫區,動態高精度生長條件控制
*低壓、常壓、微正壓工藝方式,襯底片升降、旋轉(厚膜/晶體生長)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037