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IKN研磨分散機采用獨特設計，顯著延長了易損件的使用壽命，特別適用于高硬度及高純度物料的粉碎處理。該設備功能多樣，可單機獨立運行，也可與其他設備聯動使用，且粉碎粒度范圍廣泛，成品粒徑可根據需求靈活調整。

石墨烯憑借其**的力學性能、導電性和導熱性，吸引了眾多研究團隊對其理論和應用展開深入探索。然而，石墨烯的高昂價格限制了其廣泛應用，因此開發綠色環保、高品質、大規模且高濃度的制備工藝成為當前石墨烯領域的研究熱點。這不僅是推動石墨烯實現工業化應用的關鍵，也是促進傳統材料升級換代的重要環節。

液相剝離膨脹石墨是制備高質量石墨烯的有效方法之一，可實現綠色、高品質及規模化生產。然而，膨脹石墨作為一種非極性材料，具有極強的吸附性能，其吸油值遠高于活性炭（以NMP為溶劑時尤為顯著）。在制備石墨烯漿料的過程中，由于膨脹石墨對溶劑的強吸附作用，導致其與表面活性劑和溶劑的混合物難以形成穩定的連續懸濁液。特別是在制備高濃度石墨烯漿料時，初始混合后的物料呈現砂漿狀，超聲波難以在溶劑介質中有效傳播，更無法滲透至膨脹石墨層間，導致剝離效率顯著降低甚至失敗。

膨脹石墨對油性溶劑和表面活性劑水溶液具有較高的吸附能力，這使得傳統高濃度石墨烯漿料的制備面臨諸多挑戰。目前常用的方法是通過濃縮低濃度石墨烯漿料來提高濃度，但該方法存在明顯缺陷。過濾分離過程中，由于石墨烯片徑較小，需要使用孔徑更小的濾布，這不僅增加了能耗，還容易導致跑冒滴漏現象，產生大量濾液廢水和清洗濾布的污水。而蒸發濃縮同樣會增加工藝步驟和能耗，同時需要配備專門的蒸發水收集系統來處理大量蒸發水，進一步提高了生產成本。

石墨烯 分散技術三要素：分散介質、分散劑和分散設備

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

 2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

從設備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

 IKN分散機在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通設備很難做到連續長時間的運行，并且普通乳化機不能承受高轉速的運行。設備可以控制粒徑大小，流量大小，支持售前試機及售后，詳細技術及價格歡迎來電。

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