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低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)

CMD2000

直接聯(lián)系

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

IKN

型號(hào):

CMD2000

關(guān)注度:

2721

范圍(量程或細(xì)度):

0-10微米

創(chuàng)新點(diǎn):

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

應(yīng)用行業(yè):

食品工業(yè)、涂料油墨、生物醫(yī)藥、日用化工、農(nóng)藥化肥、石油化工、精細(xì)化工

典型用戶(hù):

全國(guó)各地

產(chǎn)品介紹

低銀含量導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī),導(dǎo)電銀漿管線(xiàn)式研磨分散機(jī),導(dǎo)電銀漿超高速分散機(jī),超高速膠體磨,超高速分散機(jī),超高速研磨機(jī),管線(xiàn)式研磨機(jī),管線(xiàn)式膠體磨,研磨分散機(jī)廠(chǎng)家

 

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)獨(dú)特,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

 

 

在導(dǎo)電漿料領(lǐng)域里,銀系漿料具有導(dǎo)電率高、性能穩(wěn)定、可印刷性好、與基板結(jié)合強(qiáng)度大等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于各種電子元器件的生產(chǎn),如集成電路、薄膜開(kāi)關(guān)、電加熱膜片等。導(dǎo)電銀漿是指印刷于導(dǎo)電承印物上,使之具有傳導(dǎo)電流和排除積累靜電荷能力的銀漿,一般是印在塑料、玻璃、陶瓷或紙板等非導(dǎo)電承印物上。

導(dǎo)電銀漿的制作工藝中銀的含量分別為20-60%、40-70%、60-90%。而用于印刷(油墨狀)的導(dǎo)電銀漿銀的含量一般在40-70%,因此,無(wú)論是采用哪一類(lèi)型的導(dǎo)電銀漿,成本都相對(duì)較高。而且常規(guī)技術(shù)為了解決結(jié)合力、壽命等問(wèn)題,更是加大銀粉的含量,來(lái)提高導(dǎo)電性。因此,降低導(dǎo)電銀漿的成本,對(duì)于降低整個(gè)產(chǎn)品成本,具有決定性的意義。通過(guò)降低導(dǎo)電銀漿的銀含量,同時(shí)保持其高導(dǎo)電率,是降低銀漿成本的有效途徑。

 

導(dǎo)電銀漿制備工藝簡(jiǎn)單,減少了貴金屬銀粉的用量,大幅度降低了導(dǎo)電銀漿的生產(chǎn)成本;而且使用的納米碳化硅環(huán)氧樹(shù)脂也大大的提高了材料的導(dǎo)熱性能和力學(xué)性能,納米碳化硅不僅降低環(huán)氧樹(shù)脂的玻璃轉(zhuǎn)變溫度,同時(shí)也降低了導(dǎo)電漿的使用溫度。因此該導(dǎo)電漿成本低,附著力強(qiáng),成膜簡(jiǎn)單,具有重要的應(yīng)用價(jià)值。

 

導(dǎo)電銀漿高剪切研磨分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

 

3.CMD2000系列的線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

4.銀漿高剪切研磨分散機(jī),銀漿超高速分散機(jī)的型號(hào)表

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線(xiàn)速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

18

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。

 

 


產(chǎn)品咨詢(xún)

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