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KLA NanoFlip原位納米壓痕力學測試模塊

NanoFlip納米壓痕儀可以提供您的材料研究實驗室帶來無限的便捷。高性能多功能性是NanoFlip設計的標志，當需要進行成像集成，需要進行頻繁的轉換和廣泛的樣本控制時，無論是環境測量還是原位測試，無論有無真空，都能提供同樣出色的結果。

Fib2Test技術允許用戶將樣品傾斜90度，以便在雙光束SEM內從FIB無縫過渡到壓痕測試，而無需移除樣品。

設計為完全真空兼容，并且具有獨特的樣品觸發功能，NanoFlip非常適用于現場環境，如SEM，FIB和真空室，或者當您的實驗帶您遷移時，可以在任何情況下工作可以想象的成像系統，如AFM，光學顯微鏡和光學Pro測量儀，為您提供幾乎無限的成像選項。

電磁執行器用于KLA生產的所有系統，包括NanoFlip。這些執行器是堅固的線性裝置，固有地解耦力和位移。它們的**力為50 mN，分辨率為3 nN，超低噪聲電流小于200 nN。

NanoFlip的時間常數為20微秒，是**同時符合規格的商用納米壓痕儀，**壓痕行程為50μm，噪聲<0.1nm，數字分辨率為0.004 nm，漂移率為< 0.05nm/s。

為了確保業內*廣泛，*可靠的數據，NanoFlip能夠實現0.1 Hz至1 kHz的動態激勵頻率。

樣品臺移動，Z軸為25 mm，X為20 mm，Y軸為20 mm，分辨率為nm，可在大面積上精確定位樣品。

載荷框架剛度> 7 e5N/m

獨特的尖端校準系統集成到軟件中，可實現快速，準確和自動的尖端校準。

可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和標準

可用刮擦選項，**正常載荷為50 mN，**刮擦距離為2.5 mm，**刮擦速度為500μm/ s。

可選的NanoBlitz地形和層析成像軟件，用于材料的3D和4D映射。