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高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)（高真空鍍膜機(jī)）采用電阻熱蒸發(fā)技術(shù)，它是在高真空條件下，通過(guò)加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜。可用于生產(chǎn)和科學(xué)實(shí)驗(yàn)，可根據(jù)用戶要求專門(mén)訂制；可用于材料的物理和化學(xué)研究；可用于制備金屬導(dǎo)電電極；可用于有機(jī)材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)、有機(jī)半導(dǎo)體器件的原理研究實(shí)驗(yàn)、OLED實(shí)驗(yàn)研究及有機(jī)太陽(yáng)能薄膜電池研究實(shí)驗(yàn)等。

設(shè)備構(gòu)成

-單鍍膜室

-單鍍膜室＋進(jìn)樣室

-單鍍膜室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-單鍍膜室＋進(jìn)樣室＋手套箱（可將鍍膜室放在手套箱內(nèi)）

-多鍍膜室＋樣品傳遞室＋手套箱（組成團(tuán)簇式結(jié)構(gòu)，樣品傳遞采用真空機(jī)械手）

設(shè)備組成

電阻熱蒸發(fā)源組件、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測(cè)量系統(tǒng)、分子泵（或冷泵）真空機(jī)組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、手套箱連接部件、樣品傳遞機(jī)構(gòu)，膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。

熱蒸發(fā)源類型和數(shù)量，可根據(jù)用戶需要進(jìn)行配置。

可選件：膜厚監(jiān)控儀，恒溫制冷水箱。

熱蒸發(fā)源種類及配置

電阻熱蒸發(fā)源組件：數(shù)量：1～12套（可根據(jù)用戶要求配裝）；

電阻熱蒸發(fā)源種類：鉭（鎢或鉬）金屬舟熱蒸發(fā)源組件、石英舟熱蒸發(fā)源組件、鎢極或鎢藍(lán)熱蒸發(fā)源組件、鉭爐熱蒸發(fā)源組件（配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝）、束源爐熱蒸發(fā)組件（配石英坩堝或氮化硼坩堝）。

高真空電阻熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)（高真空鍍膜機(jī)） 工作條件（實(shí)驗(yàn)室應(yīng)具備的設(shè)備工作條件）

供電：4kW，三相五線制～ AC 380V

工作環(huán)境濕度：10℃～ 40℃

工作環(huán)境溫度：≤50%

冷卻循環(huán)水：0.2m³/h，水溫18℃～ 25℃

水壓：0.15MPa ～ 0.25MPa

真空性能

極限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa

設(shè)備總體漏放率：關(guān)機(jī)12小時(shí)，≤10Pa

操作方式

手動(dòng)、半自動(dòng)