粉體行業在線展覽
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PECVD設備
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鵬城半導體技術（深圳）有限公司
廣東
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PECVD設備
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PECVD設備（等離子體增加強化學氣相沉積PECVD）主要用于在潔凈真空環境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。
設備用途和功能特點
1、該設備是高真空單頻或雙頻等離子增強化學氣相沉積PECVD薄膜設備，主要用于制備氮化硅和氧化硅薄膜。
2、設備保護功能強，具備真空系統檢測與保護、水壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護。
3、配置尾氣處理裝置。
LHTG/LHTM/LHTW
Empyrean
V-Sorb4800-金埃譜
Hydrolink
Autoflex R837
3H-2000A
SQL810C/1010C
D70
UNI800B
Tunable PowerArc
電磁波波譜濃度儀
