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產品簡述

• 該研磨液配方及生產工藝具備研磨液在高強度機械摩擦中:

• 分散穩(wěn)定性高、效率高，產品加工后表面光滑、平整、且加工成本低

• 工藝簡單、利于工廠的批量生產

• 增強了各種復合組分的密切接觸與相互作用

• 充分發(fā)揮各組分協(xié)同增效功能

• 使粗磨液性能更優(yōu)良的優(yōu)點碳化硅研磨液分析。

產品概述

該研磨液配方及生產工藝具備研磨液在高強度機械摩擦中:
分散穩(wěn)定性高、效率高，產品加工后表面光滑、平整、且加工成本低
工藝簡單、利于工廠的批量生產
增強了各種復合組分的密切接觸與相互作用
充分發(fā)揮各組分協(xié)同增效功能
使粗磨液性能更優(yōu)良的優(yōu)點碳化硅研磨液分析。

應用領域

在碳化硅半導體的制備過程中，晶圓襯底制造作為占據(jù)總成本的40%，是至關重要的一項工藝。在半導體晶圓襯底制造過程中，切割磨拋工序是不可或缺的環(huán)節(jié)之一,它是將硅晶圓切割成較薄的片狀，然后進行研磨和拋光，以獲得所需的平整度和表面光潔度。

產品特點

一種用于碳化硅晶片加工的粗磨液，其是由金剛石團聚磨料和丙三醇構成。

• 本發(fā)明的粗磨液配合有多邊形溝槽的塑膠墊使用

• 可以替代傳統(tǒng)的鑄鐵盤碳化硼粗磨工藝。

• 采用本發(fā)明低濃度的粗磨液即可達到比高濃度碳化硼粗磨液更好的使用效果

• 減少了后道工序的加工時間，同時產生的廢液非常少，對環(huán)境影響小。

• 本發(fā)明的粗磨液是一種消耗少、環(huán)境友好的新型研磨材料。

鑄鐵盤 + 單晶4um研磨加工面型數(shù)據(jù)

產品規(guī)格及驗證參數(shù)