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產(chǎn)品簡(jiǎn)述

• 該研磨液配方及生產(chǎn)工藝具備研磨液在高強(qiáng)度機(jī)械摩擦中:

• 分散穩(wěn)定性高、效率高，產(chǎn)品加工后表面光滑、平整、且加工成本低

• 工藝簡(jiǎn)單、利于工廠的批量生產(chǎn)

• 增強(qiáng)了各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用

• 充分發(fā)揮各組分協(xié)同增效功能

• 使粗磨液性能更優(yōu)良的優(yōu)點(diǎn)碳化硅研磨液分析。

產(chǎn)品概述

該研磨液配方及生產(chǎn)工藝具備研磨液在高強(qiáng)度機(jī)械摩擦中:
分散穩(wěn)定性高、效率高，產(chǎn)品加工后表面光滑、平整、且加工成本低
工藝簡(jiǎn)單、利于工廠的批量生產(chǎn)
增強(qiáng)了各種復(fù)合組分的密切接觸與相互作用
充分發(fā)揮各組分協(xié)同增效功能
使粗磨液性能更優(yōu)良的優(yōu)點(diǎn)碳化硅研磨液分析。

應(yīng)用領(lǐng)域

在碳化硅半導(dǎo)體的制備過(guò)程中，晶圓襯底制造作為占據(jù)總成本的40%，是至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。在半導(dǎo)體晶圓襯底制造過(guò)程中，切割磨拋工序是不可或缺的環(huán)節(jié)之一,它是將硅晶圓切割成較薄的片狀，然后進(jìn)行研磨和拋光，以獲得所需的平整度和表面光潔度。

產(chǎn)品特點(diǎn)

一種用于碳化硅晶片加工的粗磨液，其是由金剛石團(tuán)聚磨料和丙三醇構(gòu)成。

• 本發(fā)明的粗磨液配合有多邊形溝槽的塑膠墊使用

• 可以替代傳統(tǒng)的鑄鐵盤(pán)碳化硼粗磨工藝。

• 采用本發(fā)明低濃度的粗磨液即可達(dá)到比高濃度碳化硼粗磨液更好的使用效果

• 減少了后道工序的加工時(shí)間，同時(shí)產(chǎn)生的廢液非常少，對(duì)環(huán)境影響小。

• 本發(fā)明的粗磨液是一種消耗少、環(huán)境友好的新型研磨材料。

鑄鐵盤(pán) + 單晶4um研磨加工面型數(shù)據(jù)

產(chǎn)品規(guī)格及驗(yàn)證參數(shù)