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氧化鋁粉體TM-D系列是日本大明化學多年鋁化合物合成技術的結晶，是高純度的納米氧化鋁粉體，為精密陶瓷的研發和量產提供較高水平的材料技術支撐。其中TM-DAR產品是各項性能*為突出的易燒結性氧化鋁粉體。

  通過合成NH4AlCO3(OH)2而研發出來的高純度粉體，具體有a-氧化鋁、遷移氧化鋁、其他以氧化鋁為基礎生成的高純度復合氧化物等產品，可以根據用途和客戶要求提供相應的產品.

 大明化學的氧化鋁粉體的制造程序：

 鋁化合物+NH4HCO3——NH4AlCO3(OH)2——燒結——Al2O3粉體

    產品用途： 

  高強度材料：切削工具，軸承，人工骨骼、牙齒等；

  電子材料：  IC基板，傳感器等；

  光學材料：  透明陶瓷，紅寶石（ruby）,YAG（多用于激光技術的釔鋁石榴石）

  其他材料： 研磨材料，合成尖晶石，觸媒擔體等

高純度氧化鋁

1.       低溫燒結性氧化鋁

TM-D系列是一次粒子形成的微細的單粒子化，在1300℃以下的溫度中燒結形成的致密的高純度a-氧化鋁粉體。TM-DAR產品尤其適合燒結透光度較高的產品。

產品特征：

1.99.99%以上高純度納米粉體

TM-DAR與TM-D、TM-DR相比，純度更高。

.       2.低溫燒結，結構致密

在1250℃至1300℃的溫度下燒結而成，達到理論密度的98%以上，致密程度高

3.可用來制造高強度、高硬度、耐磨性及耐腐蝕性良好的陶瓷制品

4.   4.可用于制造透明陶瓷

產品成分：

各個級別產品的粒度分布圖：

產品特性表：