粉體行業在線展覽
PulsPlasma? 氮化系統
面議
PVA TePla
PulsPlasma? 氮化系統
464
PulsPlasma? 離子氮化設備是一款用于等離子體擴散工藝的真空爐,它可使零件表面富含氮和/或碳,從而提高耐磨損和耐腐蝕能力。PlaTeG脈沖等離子體?擴散工藝,特別是PulsPlasma?脈沖離子氮化(PPNTM)和PulsPlasma?脈沖離子氮碳共滲(PPNCTM)應用了等離子體擴散方法,相比于傳統的氮化工藝(如鹽浴軟氮化或氣體氮化),它為客戶提供了眾多優勢,而且對環境友好,有助于節約資源:
工藝氣體和電力消耗低
使用環保型工藝氣體
靈活的處理溫度,溫度范圍350℃ – 600℃
可選擇使用機械蓋板進行局部處理
用于處理高合金鋼和不銹鋼(保持抗腐蝕能力)
可對氮化層結構進行控制
用于處理燒結的鐵/鋼以及鈦和鋁等有色金屬
尺寸:直徑1000mm x 高度1600mm
根據裝載產品和所需的處理結果,可以進行各種PulsPlasma? 擴散工藝:
PPNTM-PulsPlasma? 氮化:通過氮的擴散提高大多數鋼、鈦合金和鋁合金的耐磨損和耐腐蝕能力;
PPCNTM- PulsPlasma?氮碳共滲:通過氮和碳的擴散增強鋼的耐磨損和耐腐蝕能力;
PPCTM-PulsPlasma? 滲碳:通過碳的擴散提高不銹鋼的耐磨損和耐腐蝕能力;
PPOTM-PulsPlasma?氧化處理:對鋼鐵表面進行氧化處理,有助于提高耐腐蝕性并降低摩擦系數;
LT-PPNTM, LT-PPNTM, LT-PPNTM對鉻含量大于13%的不銹鋼零件進行處理,在保持耐腐蝕性的同時還可以提高耐磨性;
根據客戶的需求及相關應用,可對爐子進行量身設計。
鐘罩式系統(標準)
井室爐
臥式爐 (水平)
PVA TePla堅信簡化系統及部件和確保安全性是相當重要的事情。為此,我們不斷與時俱進,自主研發并設計出多款出色且適應性強的系統。
H-臥式爐:
用于大型和重型零件
M-單室型設備:
帶有一個真空鐘罩
S-交替型設備:
帶有一個真空鐘罩和兩個鐘罩底座
T-雙室型設備:
帶有兩個真空鐘罩和兩個鐘罩底座
PlasmaPen? 大氣式等離子系統
PlasmaPen? 大氣式等離子機
射頻等離子機
IoN系列等離子系統
條形等離子系統 80 Plus
批量封裝處理系統 等離子系統 GIGA690
單晶片系統
GIGAbatch 310M等離子系統
SAM 大視場掃描系統
PVA TePla SAM系列的超聲波掃描顯微鏡
VPD量測系統
雷射量測系統