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濕法去膠設(shè)備

濕法去膠設(shè)備

直接聯(lián)系

盛美半導體設(shè)備(上海)股份有限公司

美國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

品牌:

盛美半導體

型號:

濕法去膠設(shè)備

關(guān)注度:

1170

產(chǎn)品介紹

槽式去膠單元——在槽式單元中使用藥液浸泡晶圓,該槽體一次可容納多片晶圓以提高產(chǎn)能。

單片去膠腔體——將藥液噴灑在旋轉(zhuǎn)晶圓表面,更好地獨立控制每片晶圓工藝。

主要優(yōu)勢

使用便捷

精確的藥液控制

槽式單元預(yù)浸泡工藝

藥液回收使用可減少成本

優(yōu)化安全配置

結(jié)合先進的晶圓清洗工藝

多層過濾功能


特性和規(guī)格

兼容8吋和12吋晶圓

配有浸泡槽體

配有單片去膠腔體,包括:
    a.*多可配至5種藥液進行雙面清洗工藝
    b.*多可回收2種藥液
    c.單片腔體可搭載空間交變相位移兆聲波(SAPS)組件
    d.可選配有高壓solvent/DIW噴洗


產(chǎn)品咨詢

濕法去膠設(shè)備

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