粉體行業在線展覽
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顯影設備
直接聯系
盛美半導體設備（上海）股份有限公司
美國
面議
盛美半導體
顯影設備
1141
應用領域
? 曝光后烘烤 (PEB)
? 顯影
? 堅膜
三種顯影方式集于一體
靈活的噴嘴掃描系統
技術先進，使用便捷
精確的藥液控制
兼容8英寸和12英寸晶片
可配至*多四個顯影腔體
雙面工藝, 每個顯影腔體內配有1到5套液體噴嘴
2到8個熱盤
2到6個冷卻盤
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
TZ-517D
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
NJ-80型
