粉體行業在線展覽
FM-W-PDS
Fastmicro 晶圓表面顆粒物快速檢測系統(PDS)
Fastmicro 晶圓表面顆粒物快速檢測系統,專為各行業產品表面顆粒污染物直接測量而設計,主要應用于半導體領域的晶圓、薄膜及光罩檢測,也可用于顯示市場等基板檢測。該系統配備 4-12 英寸視場(FOV)掃描區域,支持上下表面檢測。其獨特光學設計使產品在計量過程中無需移動即可完成檢測。該系統可根據不同生產工藝需求進行定制,或直接集成至產線。
生產過程中的一致性測量
快速: 能在數秒內完成大面積成像
定量: 適用于生產與研發環境的驗證與監測
操作簡便: 不受操作人員影響,自動化,潔凈抓取方式
精準: 高分辨率測量(數量、位置、尺寸)
一致性: 每次測量都保持客觀、穩定
高通量: 能在工藝時間窗口內得出結果
FM-PDS: 直接檢測表面顆粒
該系統可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導體以及先進封裝應 用,提供高通量的表面顆粒污染檢測服務。
該系統對粒徑大于 0.1&μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高 效且提供全方位服務的選擇。
它能以手動或自動的操作方式,以及 較低的維護成本,取代傳統的顆粒檢測系統。
對于下一代半導體生產應用, PDS 系統具備獨特的屬性:雙面同 時掃描(選配);
靜態視場掃描(在圖像采集過程中無需移動產品)。
多功能模塊化平臺
系 統 可 定 制,以 適 應 每 個 生 產 認 證 流 程,或 融 入 生 產 線 。其 配 置 包括手動或自動晶圓抓取移動設備、用于檢測和清潔的封裝開啟 設備、填充設備、機械臂、檢測單元以及清潔設備。
該系統可根據需要客戶需求進行定制和擴展。測量模塊也可為系 統集成商和原始設備制造商(OEM)提供貼牌服務。
Pharos-STEM
Phenom Pharos
Neoscan N90
Phenom XL
Phenom Pro
ParticleMetric
ParticleX
VSP-G1
N80
N70
N60
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037