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磁控濺射技術

GSC-1000磁控濺射系統概述：

帶有水冷或者加熱(**可加熱到700度)功能，**到6"旋轉平臺，**可支持到2個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7 Torr，15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體，2個2"的磁控管，DC直流電源用于濺射金屬，并帶有膜厚監測儀(選配)。

產品特點：

• 不銹鋼，鋁質腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔

• 70l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵

• 1KW DC直流電源

• 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

• 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

• 基于LabView軟件的PC計算機控制

• 帶密碼保護功能的多級訪問控制

• 完全的安全聯鎖功能