粉體行業在線展覽
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該產品采用半導體溫差電致冷器件為冷源,機械制冷為其散熱源,不需要另接循環水源,并配有**致冷器使用的開關電源,致冷器件接通直流電流后,通過能量轉換來達到致冷的目的。本儀器控溫采用PID方法,控制快速平穩。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037