粉體行業(yè)在線展覽
量產級多功能薄膜沉積設備
面議
致真精密
量產級多功能薄膜沉積設備
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該設備基于晶圓真空傳輸平臺VTM,可以靈活配備傳輸腔室和工藝腔室,工藝腔室可選配電子束蒸發(fā)腔室、分子束外延腔室、濺射腔室、熱蒸發(fā)腔室和預清洗腔室等。可實現多種材料的精確沉積。
性能參數
晶圓尺寸 | 8~12吋 |
極限真空 | 優(yōu)于5×10-9mbar(工藝室PM) 優(yōu)于5×10-7mbar(傳輸室TM) 優(yōu)于5×10-6mbar(進樣室Load lock) |
工藝室 | 可選配電子束蒸發(fā)腔室、分子束外延腔室、熱蒸發(fā)腔室、預清洗室、濺射室、退火室、低溫室、蒸發(fā)室、氧化室等 |
傳輸室 | 可選四邊形、六邊形或八邊形腔室,可實現多個傳輸室互聯(lián),配置雙臂或單臂機械臂,配置校準和測量裝置 |
進樣室 | 8或12吋晶圓,可選EFEM等前端模塊 |
詳細配置可咨詢業(yè)務 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發(fā)源
圓形互聯(lián)設備(外置機械臂、內置機械臂)
兩個鍍膜系統(tǒng)直接互聯(lián)設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
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等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
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