粉體行業在線展覽
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
面議
致真精密
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
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MSI-100-HV生產型磁控濺射設備是針對企業和高校實驗室以及小試線研發的高性能、低成本和高效率的磁控濺射裝備。它采用簡單可靠的模塊化設計,包括進樣室和濺射室,可滿足8inch晶圓上納米級材料的生產制備需求,具有穩定、可靠、成本低的特點。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備(外置機械臂、內置機械臂)
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機