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產品

M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備

直接聯系

中國電子科技集團公司第四十八研究所

湖南

產品規格型號

參考報價：

面議

品牌：

電子科技

型號：

M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備

關注度：

587

產品介紹

PECVD鍍膜設備采用直接式等離子體沉積方式，可生產出質量**的晶體硅太陽能電池減反射膜，是業內管徑、單管產能**的管式鍍膜設備。

單臺（5管）產能≥3600片/小時（單管裝片416片/批）；

沉膜均勻性好，膜厚均勻性指標可達：片內≤3％、片間≤3％、批間≤3％；

350～580℃控溫范圍，同時滿足沉積氮化硅膜和退火工藝要求；

采用全套倍?？刂葡到y，自動化程度高（提供MES接口、遠程監控等功能）；

全自動上下舟系統，一鍵全自動工藝和完善的保護報警功能；

送料機構強度、精度、速度、穩定性大幅優于同類產品。

基本參數	成膜種類	氮化硅
	裝片量與產能	416 片/批（156x156mm 方片），單臺5管產能≥3600片/小時；
	在線時間	≥98%；
	設備功率	峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW；
	設備尺寸	7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）；
成膜質量參數	成膜均勻性	片內≤4％、片間≤3％、批間≤3％（膜厚80～120nm）；
成膜質量參數	折射率均勻性	片內≤1.5％、片間≤1.5％、批間≤1.5％（折射率2～2.2）；
溫控系統參數	恒溫區長度及精度	≤±1℃/1600mm （450℃時）；
	溫度控制范圍	200～580℃；
	溫度控制方式	五段雙回路溫度控制；
真空系統參數	壓力控制	高精度VAT閥控制，控壓范圍220±40Pa；
石墨舟傳輸系統參數	石墨舟上料方式	全自動機械手上下舟，在線式/離線式對接插片機可選；
控制系統參數	推舟機構	水平速度1~12000mm/min可調，垂直速度1~150mm/min可調，承重≥40KG；
控制系統參數	控制方式	高性能工控計算機全自動控制工藝過程，并對工藝參數和工藝流程實時監控；
基本參數	在線時間	≥98%；
	設備功率	峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW；
	設備尺寸	7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）；