粉體行業在線展覽
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直接聯系
新耕（上海）貿易有限公司
日本
面議
1171
是針對液晶顯示器和觸摸屏大批量生產的一款自動曝光設備
特點：
*具有較高的設備穩定性。
*具有較高的生產對應能力和處理速度 24sec/Sheet
*搭載USHIO自主研發的光學系統。
*具有較好的對位識別系統，提高并完善了對位成功率，進一步提高了生產效率。
用途：
*液晶顯示器和觸摸屏生產工藝的大批量生產。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
