粉體行業在線展覽
SSX600系列光刻機
面議
SSX600系列光刻機
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SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平技術,以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術,可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求,可用于8寸產線或12寸產線。
XRD-晶向定位
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