粉體行業在線展覽
SSB300系列步進光刻機
面議
上海微電子
SSB300系列步進光刻機
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產品特征
高產率
SSB320和SSB380機型可提供53.5mm×33mm超大曝光視場,并配置了高速傳輸系統、高速高精度運動臺系統和高照度照明系統,實現高產率,顯著降低客戶擁有成本。
高分辨率
SSB300系列光刻機提供多種投影物鏡配置,分辨率可達到0.8~2μm,并具有大焦深和高線寬均勻性等特點,在大規模量產中有效提升產品良率。
高精度套刻
SSB300系列光刻機擁有高精度MVS對準系統、高精度工件臺定位系統和低畸變投影物鏡,保證了高精度套刻性能。其中對準系統支持特征圖形標記和光柵標記,并可選配紅外或可見光背面對準方式,滿足客制化需求。
工藝適應性強
采用獨特的在線Mapping技術,快速準確地擬合出基底面型,可有效增大工藝窗口。提供選配可變狹縫,可實現一塊掩模分為多個區域曝光,降低工藝研發費用,且與Aligner匹配時不增加額外芯片損失。
XRD-晶向定位
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