粉體行業(yè)在線展覽
SSB300系列步進光刻機
面議
上海微電子
SSB300系列步進光刻機
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產(chǎn)品特征
高產(chǎn)率
SSB320和SSB380機型可提供53.5mm×33mm超大曝光視場,并配置了高速傳輸系統(tǒng)、高速高精度運動臺系統(tǒng)和高照度照明系統(tǒng),實現(xiàn)高產(chǎn)率,顯著降低客戶擁有成本。
高分辨率
SSB300系列光刻機提供多種投影物鏡配置,分辨率可達到0.8~2μm,并具有大焦深和高線寬均勻性等特點,在大規(guī)模量產(chǎn)中有效提升產(chǎn)品良率。
高精度套刻
SSB300系列光刻機擁有高精度MVS對準(zhǔn)系統(tǒng)、高精度工件臺定位系統(tǒng)和低畸變投影物鏡,保證了高精度套刻性能。其中對準(zhǔn)系統(tǒng)支持特征圖形標(biāo)記和光柵標(biāo)記,并可選配紅外或可見光背面對準(zhǔn)方式,滿足客制化需求。
工藝適應(yīng)性強
采用獨特的在線Mapping技術(shù),快速準(zhǔn)確地擬合出基底面型,可有效增大工藝窗口。提供選配可變狹縫,可實現(xiàn)一塊掩模分為多個區(qū)域曝光,降低工藝研發(fā)費用,且與Aligner匹配時不增加額外芯片損失。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037