粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
化學氣相沉積PECVD系統
直接聯系
北京創世杰科技發展有限公司
北京
面議
創世杰
化學氣相沉積PECVD系統
1229
Orion III等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)
Orion III等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)系統可適用于單個基片、碎片或帶承片盤的基片(2”- 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產提供先進的沉積能力。
Orion III系統用于非發火PECVD工藝。沉積薄膜：氧化物、氮氧化物、氮化物和無定形硅。工藝氣體：<20%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧和氮。
該設備可選配一個ICP或三極管（Triode）源。三極管使得用戶可以創建高密度等離子，從而控制薄膜應力。
通過打開室蓋，直接將基片裝入工藝室。
MPCVD微波等離子體化學氣相沉積系統
氣相沉積設備ATS500
反應離子刻蝕PECVD系統
化學氣相沉積PECVD系統
方腔式電子束蒸發鍍膜設備
4900/5700型電子束蒸發鍍膜系統
微波等離子體化學氣相沉積系統MPCVD
真空共晶回流焊爐
AF8500 自動平行封焊機
SM8500 手動平行封焊機
Projection 激光封焊儲能焊機
手套箱系列
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
