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TFC-6650C化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備
直接聯(lián)系
碳方程半導(dǎo)體設(shè)備制造（山西）有限公司
山西
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TFC-6650C化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備
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TFC-6650C，微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備是***的 CVD 系統(tǒng)。針對(duì)用戶的具體要求設(shè)計(jì)和研制的一臺(tái)多用途、高穩(wěn)定中等壓強(qiáng)微波等離子體綜合設(shè)備。它具有智能化生長(zhǎng)、性能先進(jìn)、功能完 善、結(jié)構(gòu)合理，使用方便、安全可靠、外形美觀等特點(diǎn)，特別適合應(yīng)用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學(xué)汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長(zhǎng)等領(lǐng)域。
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TFC-6650C化學(xué)氣相沉積（MPCVD）設(shè)備
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