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TFC-10800C化學氣相沉積（MPCVD）設備

TFC-10800C

直接聯系

碳方程半導體設備制造（山西）有限公司

山西

產品規格型號
參考報價：

面議

品牌：

碳方程

型號：

TFC-10800C

關注度：

827

產品介紹

特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積；材料表面處理和改性；低溫氧化物的生長等領域。image.png

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TFC-10800C化學氣相沉積（MPCVD）設備

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