粉體行業在線展覽
磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600
面議
北京泰科諾
磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600
708
設備型號:JCPF2600
鍍膜方式:磁控濺射
真空腔室結構:SUS304 方箱式
真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空:優于 5.0x10-5Pa
基片臺尺寸:300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度:常溫
濺射靶:矩形平面靶1套,旋轉柱狀靶2套
控制方式:PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積:15000mmx5000mm
供電總功率:≥ 20kW 三相五線制
大面積平板鍍膜設備JCPF3500
真空退火爐/釬焊爐VTHK350
真空電弧爐VDK250
多功能磁控離子濺射復合鍍膜機TSU650
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF700
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF600
熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF450
高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP350
電阻蒸發鍍膜設備
高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
EXAKT 80E
GPZT-JH10/4W
NJ-80型