粉體行業在線展覽
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磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600
直接聯系
北京泰科諾科技有限公司
北京
面議
北京泰科諾
磁控蒸發復合鍍膜機JCPF2600
852
設備型號：JCPF2600
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結構：SUS304 方箱式
真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm
極限真空：優于 5.0x10-5Pa
基片臺尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片溫度：常溫
濺射靶：矩形平面靶1套，旋轉柱狀靶2套
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積：15000mmx5000mm
供電總功率：≥ 20kW 三相五線制
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納米超硬膜涂層設備GDM900
粉體鍍膜設備JGCF1000
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