粉體行業在線展覽
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD600
面議
北京泰科諾
高真空電子束蒸發鍍膜設備TEMD600
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設備型號:TEMD600
鍍膜方式:E 型電子槍
真空腔室結構:立式圓柱形側開門結構,后置抽氣系統
真空腔室尺寸:Φ600mm×H750mm
加熱溫度:室溫~ 300℃
基片臺尺寸:平板型 Φ350mm,或球罩型基片臺 ( 可選 )
膜厚不均勻性:≤ ±5.0%
考夫曼離子源:可選
蒸發源:電子槍 10KW,6穴坩堝,國產/進口(可選), 配2套電阻蒸發
控制方式:PLC/PC(可選)
占地面積:L2500mm×W1600mm
總功率:≥ 17kW
大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備。
1. 設備一體化設計,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;
2. 可用于生產線前期工藝試驗等;
3. 實驗室制備導電薄膜、半導體膜、光學薄膜等,可同手套箱復合使用。
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