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設備型號：ZHDS400
鍍膜方式：金屬 + 有機蒸發
真空腔室結構：SUS304 方箱式，配有前、后門
真空腔室尺寸：L400mmxW440mmxH450mm
加熱溫度：室溫-300℃（選配）
基片臺尺寸：抽屜式:120mmx120mm可旋轉、升降、水冷
膜厚不均勻性：≤±5.0%（120mmx120mm范圍內）
蒸發源：金屬 2 組 + 有機 4 組或更多，有機配溫控式加熱電源，金屬電源 （國產或進口）
晶振膜厚監控儀：國產或進口（可選）
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可選 )
占地面積：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
總功率：≥ 10kW 三相五線制

1. 技術先進、設計優化，性價比高，性能穩定，使用維護成本低；

2. 廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池/OPV有機太陽能電池等各種膜層的制備；

如：鈣鈦礦層、電子傳輸層及背電極等膜層的制備