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EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優化。它可以載入不同大小的樣品，包括多片散片以及完整的硅片。

00001. 高束流密度，熱場發射電子槍可以在20、50和100kV之間切換

00002. 155mm的平臺

00003. *小曝光特征尺寸小于8nm

00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發生器

00005. 在所有KVs加速電壓下，可連續改變的寫場大小，**可以到1mm

00006. GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環境

00007. 多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

可選的系統增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統。

EBPG5150 應用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盤諧振器

· 開口環諧振器

EBPG5150 產品詳情