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科研級(jí)磁控濺射設(shè)備—MS-700

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合肥致真精密設(shè)備有限公司

安徽

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品牌：

致真精密

型號(hào)：

科研級(jí)磁控濺射設(shè)備—MS-700

關(guān)注度：

919

產(chǎn)品介紹

MS-700磁控濺射設(shè)備是一款具有多功能、多陰極的磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度的特點(diǎn)。可根據(jù)需求配置4inch以下的圓形陰極，可選擇垂直濺射、自動(dòng)傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚測(cè)量等配置。適用于研發(fā)和生產(chǎn)需要多靶濺射的中高精度的工藝需求。

性能參數(shù)

晶圓尺寸	4inch-6inch
鍍膜均勻性	優(yōu)于±2%
極限真空	優(yōu)于5×10-10mbar（金屬密封）優(yōu)于5×10-9mbar（膠圈密封）
溫控	RT-800℃，可選**1200℃
陰極數(shù)量	12個(gè)2inch 或 6個(gè)4inch，共焦濺射
電源	DC、RF、DC Pulse
沉積精度	0.1nm
占地面積	4m L3m W2.5m H
可選	低溫泵、垂直濺射、自動(dòng)傳輸、反應(yīng)濺射、膜厚儀、RGA、工藝菜單等

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科研級(jí)磁控濺射設(shè)備—MS-700

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