粉體行業在線展覽
半自動上蠟機
面議
夢啟半導體
半自動上蠟機
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設備優勢
◎ 采用固態蠟熔蠟方式,精確、定量滴蠟。
◎ 加熱冷卻盤內部采用精密加熱和自動冷卻系統,可精確控制盤面溫度。
◎ 采用獨立氣缸壓片方式,精密氣壓控制,可精準控制蠟厚。
◎ 貼片后的TTV≤5um。
性能參數
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機