粉體行業在線展覽
單面精密晶圓銅拋機
面議
夢啟半導體
單面精密晶圓銅拋機
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設備優勢
◎ 本設備為單面精密研磨設備,采用先進的機械結構和多種先進控制方法。研磨加工效率高,運行穩定。
◎ 整機采用PLC+觸摸屏控制系統,設備參數設置和操作簡單方便,系統運行穩定性高。
◎ 主電機采用變頻調速控制,實現主機軟啟動、軟停機,降低設備運行沖擊,減少工件損傷。
◎ 工件研磨壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控制實現壓力的閉環控制,保證極高的施壓精度與穩定性。
◎ 上壓盤采用主動驅動方式,在確保產品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統一性。
◎ 研磨盤冷卻水冷卻功能,在保證研磨液發揮**效率的同時減少研磨盤面的變形。
◎ 設備自帶盤面修整機,盤面修整后可保證0.01mm的盤面平整度。
性能參數
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037