粉體行業在線展覽
數控滾磨機
面議
連強智能
數控滾磨機
701
加工晶棒直徑 | 4~8英寸 |
加工晶棒長度 | ≤500mm |
橢圓度 | ±0.01mm |
圓錐度 | ±0.015mm |
表面粗糙度 | ≤1μm |
OF寬度頭尾偏差 | ±0.1mm |
晶向精度 | ≤±10' |
V-NOTCH深度 | 1.00~1.25mm |
V-NOTCH角度 | 89°~93° |
工作臺*小進給量 | 0.005mm |
磨架*小進給量 | 0.001mm |
直徑精度 | ±0.02mm |
工作臺往復速度 | 4-800mm/min連續可調 |
設備外形尺寸 | 3620x1800x2000mm |
設備總功率 | 20kW |
設備自重 | 4.5t |
可滿足4-8寸晶體加工
加工長度0-500mm
控制系統日本三菱
整機配備自動潤滑系統
外圓滾磨
測晶向角度
磨OF面
刻V-Notch巢
光潔度Ra0.8-1.00
橢圓度0.02/500mm
圓錐度±0.05/500mm
徑向精度±10'
硅
LT/LN
碳化硅
砷化鎵/磷化銦
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037