粉體行業在線展覽
無掩膜光刻機
面議
安徽澤攸
無掩膜光刻機
678
澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備,它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。
技術特點
▲ 納米壓電位移臺拼接技術
▲ 紅光引導曝光,所見即所得
▲ OPC修正算法優化圖形質量
▲ CCD相機逐場自動聚焦
▲ 灰度勻光技術
光路遠離結構圖
主要指標
應用案例
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機