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無掩膜光刻機

無掩膜光刻機

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安徽澤攸科技有限公司

安徽

產品規格型號
參考報價:

面議

品牌:

安徽澤攸

型號:

無掩膜光刻機

關注度:

678

產品介紹

    澤攸科技無掩膜光刻機是一種先進的光刻技術設備,它不需要使用傳統的物理掩膜版來轉移電路圖形,而是通過計算機控制的高精度光束直接在感光材料上進行掃描曝光,形成所需的微細圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領域有廣泛的應用。

    技術特點

    ▲ 納米壓電位移臺拼接技術

    ▲ 紅光引導曝光,所見即所得

    ▲ OPC修正算法優化圖形質量

    ▲ CCD相機逐場自動聚焦

    ▲ 灰度勻光技術

    光路遠離結構圖

    光路遠離結構圖

    主要指標

    技術參數.png

    應用案例

    應用案例

    應用案例

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無掩膜光刻機

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