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定制-電弧濺鍍
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廈門毅睿科技有限公司
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定制-電弧濺鍍
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電弧濺鍍
電弧濺鍍?是一種利用電弧放電產(chǎn)生高溫、高壓等離子體，將金屬離子沉積在基板上的表面處理技術(shù)。其基本原理是：在真空環(huán)境下，通過電弧放電使陰極靶表面蒸發(fā)并電離，產(chǎn)生大量金屬正離子。這些離子在負(fù)偏壓的作用下，直接沉積在基底上或與其他離子結(jié)合沉積在基底上，形成高質(zhì)量的鍍層?
定制-微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)
定制-超高真空多腔體自動(dòng)傳輸蒸鍍/濺鍍系統(tǒng)
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XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
