粉體行業(yè)在線展覽
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科研級磁控濺射設備—MS-400
直接聯(lián)系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
科研級磁控濺射設備—MS-400
878
MS-400磁控濺射設備是一款多功能多靶磁控濺射系統(tǒng)，具有超高真空，單原子層沉積精度，設備維護簡單的特點。MS-400系統(tǒng)標配6個2inch共焦超高真空陰極，滿足實驗室或企業(yè)實驗室中工藝研究的需求，維護簡單，運行穩(wěn)定。
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 優(yōu)于1×10-9mbar（金屬密封） 優(yōu)于1×10-8mbar（膠圈密封） |
溫控 | RT-800℃，可選**1200℃ |
陰極數(shù)量 | 6~7個2inch，共焦濺射 |
客戶案例1
通過本MS-400科研級磁控濺射，制備了具有強PMA的Mo基結構的單自由層和雙自由層MTJ磁隧道結薄膜。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發(fā)源
圓形互聯(lián)設備（外置機械臂、內(nèi)置機械臂）
兩個鍍膜系統(tǒng)直接互聯(lián)設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產(chǎn)型磁控濺射設備—MSI-200
生產(chǎn)型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產(chǎn)型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產(chǎn)級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
