粉體行業(yè)在線展覽
微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
面議
華宇東升
微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
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微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型 一款典型的微波等離子體化學氣相沉積裝置,可以在50mm直徑的襯底范圍內(nèi)進行金剛石單晶和多晶生長。 應用領域:工具、熱沉、光學窗口、寶石等。
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性能特點:
?**功率達到6kW ?微波反應腔新型設計,功率密度大 ?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質量高 ?采用水冷全金屬腔體 ?采用高效散熱的樣品臺 ?設備安全性高、耐用性高、可靠性強 ?多參數(shù)實時監(jiān)測,PLC屏幕控制,簡捷的人機交互界面 |
主要技術參數(shù):
微波功率 | 0.6kW -6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45GHz |
反應腔 | 圓柱形反應腔 |
真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
氣體質量流量控制 | 標配5路,可定制 |
工作氣壓 | 1kPa - 30kPa |
樣品臺 | 一層升降 |
基板臺類型 | 水冷式基板臺 |
襯底托 | **支持60mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積 |
操作系統(tǒng) | PLC控制系統(tǒng) |
樣平臺升降功能 | 有,可選 |
樣品臺旋轉功能 | 有 |
旋轉模式 | 連續(xù)旋轉、間歇旋轉 |
旋轉角度 | 360° |
旋轉速度 | 0-20轉/分,可調(diào)節(jié) |
MPCVD設備培育的CVD晶種
高穩(wěn)定程控微波源
微波傳輸系統(tǒng)
微波等離子體火炬(MPT)
微波等離子體源
電子回旋共振等離子體(ECR)系統(tǒng)
微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型
微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— B型
微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
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