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>微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

直接聯(lián)系

成都華宇東升微波設備有限公司

四川

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

品牌:

華宇東升

型號:

微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

關注度:

978

產(chǎn)品介紹

微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng)

—— A 

   一款典型的微波等離子體化學氣相沉積裝置,可以在50mm直徑的襯底范圍內(nèi)進行金剛石單晶和多晶生長。

應用領域:工具、熱沉、光學窗口、寶石等。



    


性能特點:

?**功率達到6kW

?微波反應腔新型設計,功率密度大

?產(chǎn)品沉積速率快、沉積質量高

?采用水冷全金屬腔體

?采用高效散熱的樣品臺

?設備安全性高、耐用性高、可靠性強

?多參數(shù)實時監(jiān)測,PLC屏幕控制,簡捷的人機交互界面


主要技術參數(shù):

微波功率

0.6kW -6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45GHz

反應腔圓柱形反應腔
真空漏率≤5×10-10Pa·m3/s
氣體質量流量控制標配5路,可定制
工作氣壓

1kPa - 30kPa

樣品臺

一層升降

基板臺類型水冷式基板臺
襯底托**支持60mm直徑圓臺面積穩(wěn)定沉積
操作系統(tǒng)

PLC控制系統(tǒng)

樣平臺升降功能有,可選
樣品臺旋轉功能
旋轉模式連續(xù)旋轉、間歇旋轉
旋轉角度360°
旋轉速度0-20轉/分,可調(diào)節(jié)


產(chǎn)品咨詢

微波等離子化學氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型

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