粉體行業在線展覽
垂直離子濺射鍍膜機
面議
杰萊特
垂直離子濺射鍍膜機
636
型號:IBSV-1030
特點:
a)基板垂直放置,水平監控;
b)轉靶左右可調,保證靶面中心和離子源**距離;
c)基板:12吋×1 ;
d)靶材:兩靶或三靶可更換;
e)多光路監控。
f)工件夾具:12吋
工藝參數:
1)真空系統
a)極限真空度:4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用時間 10 Pa:≦ 10 分鐘
c)漏率:3.0×10-5Pa m3/se
型號:IBSV-1030
特點:
a)基板垂直放置,水平監控;
b)轉靶左右可調,保證靶面中心和離子源**距離;
c)基板:12吋×1 ;
d)靶材:兩靶或三靶可更換;
e)多光路監控。
f)工件夾具:12吋
工藝參數:
1)真空系統
a)極限真空度:4.0×10-5Pa
b)抽至10Pa所用時間 10 Pa:≦ 10 分鐘
c)漏率:3.0×10-5Pa m3/se
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