粉體行業在線展覽
離子鍍膜設備
面議
杰萊特
離子鍍膜設備
710
型號:IBSV-1030 特點:a)基板垂直放置,水平監控;b)轉靶左右可調,保證靶面中心和離子源**距離;c)基板:12吋×1 ;d)靶材:兩靶或三靶可更換;e)多光路監控。f)工件夾具:12吋工藝參數:1)真空系統a)極限真空度:4.0×10-5Pa b)抽至10Pa所用時間 10 Pa:≦ 10 分鐘c)漏率:3.0×10-5Pa m3/s 2)控制精度a)靶材旋轉:0.005°b)工件旋轉: <1000RPMc)編碼器Encode: 12000lines;480000Counts/revd)膜厚修正板:0.005°e)擋板: position switch3)光學監控系統OMSa) 波長范圍:380nm~1650nmb) 光源穩定性 :白光< 0.1%,激光< 0.02%c) 波長分辨率: 白光0.2nm,激光0.1nmd) 波長準確度: 白光0.2nm ,激光0.1nm
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機