粉體行業(yè)在線展覽
垂直離子濺射鍍膜設備
面議
杰萊特
垂直離子濺射鍍膜設備
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型號:IBSV-1030 特點: a)基板垂直放置,水平監(jiān)控; b)轉(zhuǎn)靶左右可調(diào),保證靶面中心和離子源**距離; c)基板:12吋×1 ; d)靶材:兩靶或三靶可更換; |
杰萊特秉承質(zhì)量**,信譽至上的理念專注鍍膜行業(yè)數(shù)十年,我公司將利用自身技術(shù)優(yōu)勢,根據(jù)客戶需求,生產(chǎn)各種類型的高端精密鍍膜設備
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037