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瑞典Mycronic 掩膜計量系統(tǒng)Prexision-MMS
詳細介紹
掩膜計量系統(tǒng)
主要優(yōu)勢
*更佳的配準(zhǔn): 30%
*更好地將掩膜套合到掩膜上: 20%
*更短的周轉(zhuǎn)時間: 30%
。 **的創(chuàng)新性Prexision平臺具備優(yōu)異的精準(zhǔn)度與可重復(fù)性
。 用我們的**技術(shù)改善配準(zhǔn)測量。
。因為**次測量的結(jié)果精確無誤,這大大給您節(jié)省了周轉(zhuǎn)時間。
。 充分發(fā)揮我們的Prexision光刻機的潛力。
基于*精確的Prexision平臺打造出的Prexision-MMS將對大面積的配準(zhǔn)測量帶到了全新的高度。現(xiàn)在,您可以證明您的光掩膜質(zhì)量究竟有多好了!
為充分利用其性能,您的測量系統(tǒng)性能對于精密調(diào)校光刻機也是極其重要的,這樣您的光掩膜才能以**的質(zhì)量描繪出來。
Prexision-MMS 提供兩個型號。G8型**可處理用于8代顯示器玻璃尺寸的掩模尺寸。對于G10型,**可處理11代顯示器尺寸。
技術(shù)指標(biāo) Prexision-MMS
掩膜對掩膜套合3σ[nm] : 40
配準(zhǔn)3σ[nm] : 65
關(guān)鍵尺寸可重復(fù)性3σ[nm]: 50
**尺寸: G8
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037