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臺式磁控濺射儀

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科睿設備有限公司

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1523

產品介紹

該系統可以作為以下功能裝置:

1,研發級R&D鍍膜設備,性能優異

2,具備所有研發級別的鍍膜要求

3,高效的沉積速率,鍍膜時間快

4, 實驗室中培訓的**工具

主要的特點和先進的功能:

1, 臺式,小型,快速

2,全自動化程序控制

3,單靶或多靶聯合濺射鍍膜,多路氣體管路

4,共聚焦設計,靶槍尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,襯底可做到200mm,旋轉1-20RPM,以及Load-lock配置

5,配置干泵+分子泵,可達高真空,適用高品質薄膜沉積。

6, 可做直流濺射,射頻濺射,100W射頻偏壓(用于襯底表面清洗)

性能價格比高??!

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