粉體行業在線展覽
面議
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該系統可以作為以下功能裝置:
1,研發級R&D鍍膜設備,性能優異
2,具備所有研發級別的鍍膜要求
3,高效的沉積速率,鍍膜時間快
4, 實驗室中培訓的**工具
主要的特點和先進的功能:
1, 臺式,小型,快速
2,全自動化程序控制
3,單靶或多靶聯合濺射鍍膜,多路氣體管路
4,共聚焦設計,靶槍尺寸:2英寸,3英寸,4英寸,襯底可做到200mm,旋轉1-20RPM,以及Load-lock配置
5,配置干泵+分子泵,可達高真空,適用高品質薄膜沉積。
6, 可做直流濺射,射頻濺射,100W射頻偏壓(用于襯底表面清洗)
性能價格比高??!
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037