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產地：美國，韓國；

型號：PS-100， EURA-100;

等離子去膠機主要用于光刻膠的剝離或灰化，也可用于：

1.有機及無機殘留物的去除

2. 去除殘膠以及等離子刻蝕的應用

3.清洗微電子元件、電路板上的鉆孔或銅線框架

4.提高黏附性，消除鍵合問題

5.塑料的表面改性：O2處理以改進涂覆性能

6.產生親水或疏水表面等

主要配置：

1.載片(Wafers)：直徑不大于100 mm(或200mm)的各種基片

2.工藝氣體(Gas lines)：O2， N2

3.射頻源(Source)：50 ～ 500W(13.56 MHz)連續可調，全自動匹配

4.氣體流量(Gas flow)：MFC精確調控

5.產能：每次20片，每個循環約5分鐘（輝光1分鐘）

6.可升級到反應離子蝕刻(RIE)功能

參考用戶：

廣東工業大學等；