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無掩模曝光機

美國IMP（Intelligent Micro Patterning， LLC）公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光**技術，已成為無掩模紫外光刻領域的***。

產品優(yōu)點：

微米和亞微米光刻 (*小可達到0.6um線寬)

紫外光直寫曝光，無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費用

靈活性高，可直接通過電腦設計光刻圖形，并可根據設計要求隨意調整。

可升級開放性系統(tǒng)設計。

按照客戶要求可從低端到高端自由配置

使用維護簡單， 設備耗材價格低。

應用范圍廣，目前廣泛應用于半導體、生物芯片、微機電系統(tǒng)、傳感器、微化學、光學等領域。

*小線寬可以達到0.6um量級