粉體行業(yè)在線展覽
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
面議
北京泰科諾
熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF450
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設(shè)備名稱:熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備
設(shè)備型號:HF450
真空腔室結(jié)構(gòu):立式前開門結(jié)構(gòu),后置抽氣系統(tǒng),雙層水冷
真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm
真空系統(tǒng):復(fù)合分子泵高真空系統(tǒng)
基片臺尺寸:Φ100mm
襯底溫度:600 ~ 1100℃
電源:專用熱絲電源 400A, 恒流或恒功率模式
氣路控制:4 路氣體流量控制
控制方式:PLC 觸摸屏控制
占地面積:主機(jī) L1200mm×W1060mm×H1900mm
總功率:≥ 20kW
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM1000
納米超硬膜涂層設(shè)備GDM900
粉體鍍膜設(shè)備JGCF1000
粉體鍍膜設(shè)備JGCF800
粉體鍍膜設(shè)備JGCF350
真空退火爐/釬焊爐VTHK550
高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCP500 高真空磁控濺射鍍膜設(shè)備JCPY500
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備TEMD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS500
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHDS400
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備ZHD600
電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備.
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037