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熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

直接聯(lián)系

北京泰科諾科技有限公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

北京泰科諾

型號(hào)：

熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

關(guān)注度：

815

產(chǎn)品介紹

設(shè)備名稱：熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備

設(shè)備型號(hào)：HF1200

真空腔室結(jié)構(gòu)：立式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷

真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm

真空系統(tǒng)：高真空泵組系統(tǒng)

基片臺(tái)尺寸：Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(tái)（旋轉(zhuǎn)、升降可選）

襯底溫度：600 ～ 1100℃

電源：專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

氣路控制：4 路氣體流量控制

控制方式：PC+PLC+ 觸摸屏控制

占地面積：主機(jī) L5000mm×W3000mm×H4000mm

總功率：≥ 300kW

設(shè)備名稱：熱絲 CVD 金剛石膜沉積設(shè)備

設(shè)備型號(hào)：HF1200

真空腔室結(jié)構(gòu)：立式前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng)，雙層水冷

真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm

真空系統(tǒng)：高真空泵組系統(tǒng)

基片臺(tái)尺寸：Φ500mm2×600mm2 方形基片臺(tái)（旋轉(zhuǎn)、升降可選）

襯底溫度：600 ～ 1100℃

電源：專用熱絲電源 2200A, 恒流或恒功率模式

氣路控制：4 路氣體流量控制

控制方式：PC+PLC+ 觸摸屏控制

占地面積：主機(jī) L5000mm×W3000mm×H4000mm

總功率：≥ 300kW

產(chǎn)品咨詢

熱絲CVD金剛石膜沉積設(shè)備HF1200

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