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CTS AIP300型全自動CMP化學機械拋光機

直接聯系

微納(香港)科技有限公司

韓國

產品規格型號
參考報價:

面議

關注度:

1661

產品介紹

**、產品簡介:

韓國CTS公司的AIP300CMP拋光機是一款12寸工業級CMP系統,可兼容4寸,6寸,8寸,12寸樣品,可用于工廠及小批量量產。

第二、產品主要特色:

1CMP拋光頭:采用氣囊加載模式,5區壓力獨立控制,可得到良好的工業級拋光效果;

2、自動上下片,自動拋光,干進干出;

3、拋光墊修整器:擺臂式設計,由13個傳感器分別控制13個區域的下壓力,可保證拋光墊高水平修整;

4、拋光墊修整器:具有在線修整與離線修整兩種模式;

5,工藝數據可實時監測;

6、可存儲多個Recipe

7帶兩個手臂及自動雙面清洗設備

第三、核心技術參數:

拋光頭

兼容4寸,6寸,8,12

拋光頭擺動范圍

±15mm

拋光頭轉速

0-200rpm

拋光頭加壓方式

氣囊柔性加壓背壓功能(-區加壓)

拋光頭壓力范圍

0.14-14 psi

拋光盤尺寸

20英寸

拋光盤轉速

0-200 rpm

蠕動泵

2

拋光液流速

20-500 cc/min

拋光墊修整器分區

13

拋光墊修整器在線掃描速度

10sweeps/min

拋光墊修整器下壓力

3-20lbs

拋光墊修整器轉速

0-150rpm

CMP后片內非均勻性WIWNU

1sigma,去邊5mm

< 5%

CMP后片間非均勻性WTWNU

1sigma,去邊5mm

< 3%

儀器尺寸

1000×2030×2100(W× L× H, mm)

冷卻系統

包含

四,應用實例:

?CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜,STI

?工藝開發可協助客戶進行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術開發

產品咨詢

CTS AIP300型全自動CMP化學機械拋光機

微納(香港)科技有限公司

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