粉體行業在線展覽
氮化鎵外延設備
面議
芯三代
氮化鎵外延設備
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技術優勢
芯三代公司自主研發的高性能氮化鎵材料外延生長設備,滿足未來市場對設備更高產能要求的同時,具有高外延均勻性、低外延缺陷、低外延運行成本、長維護周期和易于維護等特性。
工藝性能
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機